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超先端技術―原子・分子レベルをも視野に入れたクリーンルームづくり
歩留まり向上と環境保全の企業命題に応える内装システムづくり 先端のクリーン技術は、既に「原子・分子レベルのサイズや精度で製品を加工し、 組み立て、1つの機能を持つユニットを形成する技術」にまで届いています。 21世紀のテクノロジーは、着実にナノレベルにパラダイムシフトするといわれ、 それに伴いますます必要なるのが、より高度な清浄空間です。 半導体、プラズマディスプレイ、液晶、精密機械、医薬品、 食品など多くの産業分野で、安定的な製造と高歩留まりを実現させてきたクリーンルームに、 さらに高レベルの清浄性が求められるのはいうまでもありません。 ナノレベルの研究開発、製造には、空気中の浮遊状物質や化学物質、静電気、電磁波と、 温度・湿度・室圧といった環境条件を効率的に管理する空間として、 クリーンルームはなくてはならない存在なのです。 ベニックスは、長年にわたり半導体産業・精密機器産業とともに培ってきた実績とノウハウを生かし、 生産性の向上と高品質の製品づくりを約束する理想のクリーンルーム内装システムの開発に挑戦し続けてまいりました。 技術面はもちろん、経営面からの諸条件にも対応できる斬新なシステムとすぐれた製品をお届けするために、 生産現場などのクリーン度測定も実施。 よりグローバルな視点に立って、環境負荷の低下・省エネルギー・ローコスト性・ メンテナンスサービスの充実に留意した製品開発・システムづくりに努力してまいります。 ![]()
日本初のトータライズされた“0.1µクラス1”の清浄度を達成した東北大学電気通信研究所スーパークリーンルーム。
世界最高度のクリーン度を誇り現在でも注目されております。
ベニックスは、建設チームの一員として参画し、内装設備の設計・施工を担当して高い評価を得ました。
その背景には、半導体デバイス製造工程で要求された不可欠な内装材の導電性性能を高めるなどの課題に ついていち早く取り組みできるノウハウと周辺技術を確立しました。 その結果内外に数多くのクリーンルーム納入実績を積み上げ次世代クリーンルームの発展に大きくサポートしております。 ![]() ![]() 東北大学 電気通信研究所 ![]()
わが国の電子産業の発展を託して、2001年3月に完成した次世代Fluctuation Free Facility:F3。
半導体や液晶産業におけるコストを大幅に削減できるフレキシブルなシステム設計と、
ギガ通信時代のキーとなる超高速高性能素子の実現までも視野に入れた高精度のクリーン性能を同時に
可能にした、画期的なバラツキ、変動、ゆらぎのいっさい存在しない施設です。
ベニックスはF3の構築に要求される、より高精度な電磁波ノイズ対策・微振動対策・アウトガス対策・
帯電防止対策などの性能を実現させる内装材および内装技術の開発を担当して、
当初よりこのプロジェクトに参画してまいりました。
半導体製造プロセスなどでの高歩留まりを実現する高品質のクリーン性と、
生産性を第一義とした内装システム設計というベニックスの思いは、
東北大学との共同プロジェクトを通してさらに磨かれ、21世紀の日本におけるより強固な産業基盤づくりの一端を担っていくことになります。
![]() ![]() 東北大学 未来情報産業研究館 |